Otevřením výstavy s názvem Archiv zázraků dnes v českém pavilonu na Všeobecné světové výstavě EXPO 2010 v Šanghaji začaly týdny českého designu. V režii Designbloku Praha a skupiny Olgoj Chorchoj se v multimediální hale představí deset českých designérů, sdělila ČTK zástupkyně organizačního týmu Tereza Králová.

Podle manažerky doprovodných programů pavilonu Martiny Hončíkové byly všechny exponáty vyrobeny výhradně pro EXPO.

"Výstava vznikala rok a pracovali jsme na ní s deseti předními designéry," uvedla kurátorka výstavy Jana Zielinski, která je jedním ze zakladatelů pravidelné pražské přehlídky českého designu Designblok. "Zajímalo nás, jak zpracují témata, která ovlivňují náš život, a kromě tohoto zadání měli pro tvorbu úplnou svobodu."

Zúčastnění návrháři se vypořádali s různými tématy, pro které si zvolili nejrůznější materiály. Například módní návrhářka Liběna Rochová zobrazila pomocí papíru téma létání. Známá minimalistická šperkařka českého původu Eva Eisler si zvolila téma Světlo a prostor, které zobrazila ve skle a v plastu corianu.

Návrhářka Hana Zárubová si pro téma Obraz vybrala nanotechnologie a duté vlákno a sklář Rony Plesl zůstal u broušeného a foukaného skla pro zobrazení tématu půda. Mezi dalšími vystavujícími jsou Daniel Piršč, fotograf Salim Issa, René Šulc, Hippos Design a skupina Olgoj Chorchoj.

Pojítkem instalací je bílý terén pod skleněným stromem a černobílý filmový příběh režiséra Tomáše Luňáka promítaný na jeho pozadí.
"Jde o design příběhů, a kde jinde lépe vyprávět příběhy, než pod stromem, a z čeho jiného by měl být český strom než ze skla," nastínil další kurátor z Designbloku Jiří Macek.

Týdny českého designu potrvají do 31.srpna. Kromě Archivu zázraků zahrnují i módní přehlídku na šanghajské historické nábřežní třídě a následnou instalaci modelů.